简要描述：DMD数字掩模光刻机无需制造掩模版，采用DMD 数字掩模可在抗蚀剂内曝光复制所希望的任意图案,结合偏振片可实现对任意位置抗蚀剂方向的特定操控。配置德国PI高精度六轴云台，可做多图拼接操作。
| 曝光光源 | 1.7W 405 nm LED |
| 曝光光源均匀性 | ＞95% |
| 最大样品尺寸 | 50*50mm，依赖曝光拼接 |
| DMD芯片像素 | 1920*1080（10.8μm/p） |
| 单幅曝光尺寸 | 约为2.0mm*1.1mm（10X） |
| 曝光倍率 | 2X、5X、10X |
| 最高分辨率 | 1.1μm（10X物镜） |
| 自动对焦精度 | 1μm |
| 自动调平精度 | 10’ |
| 偏振对比度 | >7000:1（@405nm） |
| 线偏振方向精度 | ± 0.2° |
| 可选功能 | 曝光拼接，任意偏振方向曝光 |
| 曝光拼接精度 | 1μm |
| 外观尺寸 | 800mm（长）x550mm（宽）x680mm（高） |
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